ANSYS高斯脉冲激光光源温度场模拟APDL详解

以下为中间过程中的温度场

本实例介绍在一个高斯脉冲激光光源温度场的模拟，包含了脉冲激光的apdl程序，高斯光源的APDL程序，以及随温度变化的材料参数设置，apdl程序为参数化建模，只需修改相应的数据，即可更换模型参数。

下层基板：长1000微米，宽300微米，高300微米;上层板材：长1000微米，宽300微米，厚30微米。

激光照射上层板材，由宽度方向的中点进入，沿长度方向直线扫描一道，到另一边中点结束

激光为普通高斯光源，形式为脉冲激光，如图3，其中激光频率=1/T_Cycle, 占空比=T_Pulse/T_Cycle 

在模拟的过程中要实现激光功率，扫描速度，激光频率和占空比的可变。求得上层板材中心位置温度随时间的变化曲线

1. 温度场只考虑传热，不考虑对流以及辐射，环境温度为室温25摄氏度。

2. 材料的各项参数不是固定参数，而是随温度变化的参数。

激光参数：

光斑直径：100微米

激光功率：200W  

扫描速率v=800mm/s 

占空比ra=0.5 

激光频率f=20000Hz