🙉芯片半导体产业链入门级梳理
👉上游-软
• EDA-电子设计自动化
国际代表:新思科技、Mentor、铿腾电子
国内代表:华大九天、广立微、芯禾科技
• IP授权-知识专利授权
设计公司购买成熟可靠的IP方案,实现某个特定功能,不需要对芯片每个细节进行设计
代表:ARM、ACTT
👉上游-硬
• 材料:基础材料、晶圆制造材料、封装材料等
代表:日本信越、德国、韩国LG、环球晶圆等
• 设备:刻蚀机、薄膜设备、测试设备、清洗设备、光刻机等
晶圆厂投资占比80%;光刻机是全产线核心,占设备投资的20%-25%
国际代表:ASML、AMAT、TEL、Advantest等
国内代表:北方华创、中微半导体、上海微电子、芯源微等
👉中游
• 设计
通过系统设计和电路设计将设定的芯片规格形成设计版图,芯片的研发过程资金门槛高且周期长,从开发、流片到量产,约18个月-2年
国际代表:高通、博通、英伟达、赛灵思
国内代表:海思半导体、紫光展锐、兆易创新、汇顶科技等
• 晶圆制造、加工
拉晶、切割,从砂石中提炼出晶圆后,按照芯片设计方案,在上面构建完整的物理电路,主要包含镀膜、光刻、刻蚀、离子注入这些工艺
代表:三星、格罗方德、台积电、中芯国际等
• 封测(封装和测试)
把做好的合格晶圆进行切割、焊线、塑封,使芯片电路与外部器件实现电气连接,再用测试工具对封装完成的芯片进行功能和性能测试
代表:安靠、日月光、力成、矽品、长电科技、华天科技等
👉下游
终端应用
消费电子、计算机、通信、汽车、工业、安防等
代表:华为、苹果等
👉产业链商业模式
• IDM模式
集芯片设计、制造、封测等多个产业链环节于一身,是早期多数集成电路企业采用的模式,目前仅有少数企业能够维持。设计、制造等环节协同优化,有助于充分发掘技术潜力,能有条件率先实验并推行新的半导体技术,但模式成本高,短期资本回报率低
国际代表:英特尔、三星、德州仪器
• 垂直分工模式
每一个环节由专门公司负责。此模式投资门槛略低,可以充分利用产能,但存在工艺流程对接问题
国内代表:紫光集团、上海贝岭、华润微电子
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以前:IDM模式
现在:垂直分工模式+IDM模式
标志:1987年台积电的成立标志着半导体行业从IDM模式向垂直分工化的变革